Резидент ОЭЗ «Микрон» проводит испытания российского фоторезиста 90 нм, разработанного НИИМЭ. Это позволит сократить зависимость от зарубежных поставок материалов для микроэлектроники. О планах перехода на российские компоненты сообщили Максим Ликсутов и Анатолий Гарбузов.
Ликсутов отметил, что многие московские предприятия микроэлектроники, являющиеся резидентами ОЭЗ «Технополис Москва», активно внедряют отечественную электронную компонентную базу. «Микрон» тестирует первый российский фоторезист для фотолитографии с нормами 90 нм.
Фоторезист – ключевой полимерный материал для фотолитографии. Он наносится на кремниевую подложку и формирует структуру микросхем при облучении. Ранее в России такое производство отсутствовало из-за недостаточного развития необходимого оборудования.
Гарбузов подчеркнул, что завод «Микрон» – единственный в России производитель микросхем с топологией 180-90 нанометров. Его чипы применяются в банковских картах «Мир», загранпаспортах, водительских удостоверениях и других проектах.
